光刻胶涂布方法[发明专利]

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专利名称：光刻胶涂布方法专利类型：发明专利

发明人：王耀增,罗丁硕,杨然富,赵弘文,蔡孟霖申请号：CN201810270413.X申请日：20180329公开号：CN108490739A公开日：20180904

摘要：本发明公开了一种光刻胶涂布方法，包括步骤：步骤一、提供一具有沟槽式结构的衬底；步骤二、将衬底放置在涂胶机台上，根据在衬底上所需要涂布的总光刻胶层的厚度计算出整个光刻胶涂布所需要的光刻胶总喷量；将光刻胶总喷量分解成两次以上的光刻胶喷量；步骤三、根据计算的光刻胶喷量依次进行对应次的光刻胶的涂布并由各次涂布的光刻胶叠加形成总光刻胶层。本发明能提高光刻胶涂布的平坦化效果，节省光刻胶的使用量以及节省工艺时间。

申请人：上海华力集成电路制造有限公司

地址：201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室

国籍：CN

代理机构：上海浦一知识产权代理有限公司

代理人：郭四华

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